IVD蒸鍍設(shè)備 當(dāng)前位置:主頁 > 鍍膜設(shè)備 > IVD蒸鍍設(shè)備 >
- 詳細(xì)介紹
ES500是IVD離子輔助蒸發(fā)鍍設(shè)備，以坩堝蒸鍍?yōu)橹鳎瑥?fù)合了磁控濺射和離子轟擊技術(shù)，主要用于在各種零件產(chǎn)品（如：釹鐵硼、專用緊固件等）表面鍍鋁，用于防腐蝕的應(yīng)用，具體技術(shù)規(guī)格如下：
| 真空室尺寸 | Ø1000mm * L1000mm （臥式） |
| 均勻可鍍區(qū) | Ø600mm * 700mm |
| 極限真空度 | 3.0*E-4Pa |
| 壓升率 | 0.3Pa/hr |
| 冷卻水 | 5ton/hr |
| 占據(jù)空間 | 4.0*3.0*3.5米 |
| 抽氣系統(tǒng) | 粗抽泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+前級泵 |
| 真空檢測 | 復(fù)合真空計(jì) |
| 工藝氣體MFC | 2路 |
| 轉(zhuǎn)架 | 臥式帶二次自轉(zhuǎn) |
| 網(wǎng)籠 | 一次自轉(zhuǎn)大網(wǎng)籠和二次自轉(zhuǎn)小網(wǎng)籠 |
| SMS磁控濺射 | 1套 |
| 蒸發(fā)舟 | 5套 |
| 連續(xù)送絲機(jī)構(gòu) | 5套 |
| 轟擊電源 | 最高可達(dá)3000V |
| 加熱系統(tǒng) | 最高300度，2根熱電偶監(jiān)測 |
| 自動(dòng)控制 | IPC+PLC全自動(dòng)控制 |
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